设备型号 | Hitachi FlexSEM1000 Ⅱ | 设备资产值 (万元) |
180 |
设备厂家 | 日立高新技术公司 | ||
设备照片 | |||
性能指标 | 1. 分辨率*3: 4.0 nm(二次电子像、加速电压:20 kV、高真空模式),15.0 nm(二次电子像、加速电压:1 kV、高真空模式),5.0 nm(背散射电子像、加速电压:20 kV、低真空模式)。 2.加速电压:0.3 kV~20 kV; 3. 倍率:×6~×300000 (照片倍率),×16~×800000 (显示器显示倍率)。 |
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应用范围 | 用于扫描电镜观察表面精细结构及元素分析,应用于纳米技术、生命科学、产品设计研发及失效分析等领域。 | ||
设备主管人 | 郝秀东 | 联系方式 | 0771-3113518 |
备注 | 结构分析 |